据elec报道，asml最近在2022年半导体euv生态系统全球大会上指出，asml生产的euv设备数量已从2019年的22台增加到2021年的42台预计今年将超过50家，明年生产单位数量将进一步增加高na euv设备的初始版本将于明年年底推出，量产车型将于2024年底或2025年初推出
在10月19日的第三季度财报中，asml表示:在euv高na业务中，asml获得了twinscan exe的额外订单:5200，目前，所有euv客户都提交了高na订单高na euv设备是一种将聚光透镜的数值孔径从0.33提高到0.55的设备与现有的euv设备相比，它可以处理更精细的半导体电路大多数业内人士认为，高na设备对2nm工艺至关重要
据etnews报道，三星电子和sk海力士向光刻机巨头asml订购了下一代半导体设备高na极紫外曝光设备继tsmc和英特尔之后，韩国半导体制造商也准备推出能够实现2纳米工艺的器件对最先进技术的竞争预计会加剧
本站了解到，高na euv设备比目前使用的euv设备更昂贵，但可以一次性实现超精细技术，可以大大提高生产率就三星电子而言，需要保证高na euv设备在3nm量产后用于2nm量产现有的euv装备预计耗资2000亿韩元至3000亿韩元，而高na euv装备预计耗资5000亿韩元
