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财经

asml:今年euv设备生产台数将超50台,high-尊龙凯时平台入口

时间:2022-12-09 10:04 来源:it之家 作者:肖鸥

据elec报道,asml最近在2022年半导体euv生态系统全球大会上指出,asml生产的euv设备数量已从2019年的22台增加到2021年的42台预计今年将超过50家,明年生产单位数量将进一步增加高na euv设备的初始版本将于明年年底推出,量产车型将于2024年底或2025年初推出

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在10月19日的第三季度财报中,asml表示:在euv高na业务中,asml获得了twinscan exe的额外订单:5200,目前,所有euv客户都提交了高na订单高na euv设备是一种将聚光透镜的数值孔径从0.33提高到0.55的设备与现有的euv设备相比,它可以处理更精细的半导体电路大多数业内人士认为,高na设备对2nm工艺至关重要

据etnews报道,三星电子和sk海力士向光刻机巨头asml订购了下一代半导体设备高na极紫外曝光设备继tsmc和英特尔之后,韩国半导体制造商也准备推出能够实现2纳米工艺的器件对最先进技术的竞争预计会加剧

本站了解到,高na euv设备比目前使用的euv设备更昂贵,但可以一次性实现超精细技术,可以大大提高生产率就三星电子而言,需要保证高na euv设备在3nm量产后用于2nm量产现有的euv装备预计耗资2000亿韩元至3000亿韩元,而高na euv装备预计耗资5000亿韩元

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